美光抢先支持Canon纳米半导体印刷，以降低DRAM生产成本

近日，全球知名存储器生产商美光（Micron）宣布计划采纳日本佳能（Canon）的纳米半导体印刷技术，旨在进一步降低DRAM内存的生产成本。

在一次公开演讲中，美光详细介绍了如何将纳米半导体印刷技术应用于DRAM生产。该技术有助于解决DRAM制程中的一大挑战：随着沉浸式曝光分辨率的提升，Chop层数不断增加，导致必须增加更多的曝光步骤来去除密集内存阵列周围的虚假结构。

传统的光学系统在绘制DRAM层图案时存在困难，而纳米半导体印刷则可以实现更精细的图案打印。值得一提的是，与沉浸式曝光相比，纳米半导体印刷的成本仅为其20%，使其成为一个极具吸引力的解决方案。然而，这一新技术并不能完全替代传统曝光在所有内存生产阶段的应用，但至少能显著降低单一技术的操作成本。

佳能于2023年10月发布了FPA-1200NZ2C纳米半导体印刷（NIL）设备。公司社长御手洗富士夫表示，纳米半导体印刷技术的推出为小型半导体制造商提供了生产先进芯片的新途径。半导体设备业务经理岩本和德进一步解释称，纳米半导体印刷是指将带有半导体电路图的光罩压印至晶圆上，通过单一的印记就能在适当的位置形成复杂的2D或3D电路图。只需对光罩进行改进，甚至有能力生产2纳米芯片。