【太平洋科技资讯】荷兰半导体设备制造商阿斯麦（ASML）近日向一家未披露名称的公司交付了其第二台高数值孔径 (NA) 极紫外 (EUV) 光刻机，这台高端光刻机旨在制造比当前设备所能制造的密度更高的芯片。据路透社报道，第二台高端光刻机的出货意味着这一技术正逐渐被采用，并有望推动半导体行业的发展。
尽管 ASML 对买家身份讳莫如深，但路透社指出英特尔、台积电和三星都是潜在客户。事实上，英特尔已经购买了首台高数值孔径 EUV 光刻机，用于其即将推出的 14A 制程节点。
据 ASML 在提交给美国证券交易委员会的文件中提到，英特尔在 2024 年初在其位于俄勒冈州希尔斯伯勒的工厂接收了首台 TWINSCAN EXE:5200 系统。这也意味着英特尔可能是第二台高数值孔径 EUV 光刻机的买家之一。
除了英特尔、台积电和三星之外，还有其他可能的买家。去年 12 月，有传闻称由 IBM 和美光等公司运营的一家正在建设的半导体工厂将获得一台 ASML 的高数值孔径 EUV 光刻机。这也意味着这家工厂可能已经收到了这台机器。
尽管目前只有两台这样的高端光刻机投入使用，但 ASML 计划生产更多设备。该公司已经收到额外的 10 到 20 台订单，每台售价 3.5 亿欧元(当前约 27.02 亿元人民币)，这意味着 ASML 目前已收到至少 35 亿欧元的订单。这也预示着未来 ASML 高数值孔径 EUV 光刻机的销售额将超过 40 亿欧元。
随着越来越多的公司开始采用这一技术，ASML 的高数值孔径 EUV 光刻机有望成为市场上的重要产品。这将有助于推动半导体行业的发展，并带来更多的商业机会和技术创新。
