4月18日,美国芯片公司英特尔宣布,其代工厂已接收并完成组装业界首台商用高数值孔径(High NA)极紫外(EUV)光刻机。据介绍,这套重达165吨的设备是阿斯麦(ASML)与英特尔合作数十年后开发的新一代光刻设备,现位于俄勒冈州的D1X制造工厂,正在进行最后的校准。
4月18日,美国芯片公司英特尔宣布,其代工厂已接收并完成组装业界首台商用高数值孔径(High NA)极紫外(EUV)光刻机。据介绍,这套重达165吨的设备是阿斯麦(ASML)与英特尔合作数十年后开发的新一代光刻设备,现位于俄勒冈州的D1X制造工厂,正在进行最后的校准。
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