台积电：A16 技术或无需依赖ASML高级设备High NA EUV

台积电业务开发资深副总经理张晓强在最近的一次行业研讨会上表示，公司最新研发的A16技术制程并不一定需要使用艾司摩尔（ASML）生产的高数值孔径极紫外光曝光机（High-NA EUV）。这一表态在技术界引起了广泛关注。

据报道，张晓强在荷兰阿姆斯特丹的研讨会上阐述了台积电的这一技术立场。他指出，虽然A16厂的设计可能会考虑容纳High-NA EUV技术，但这并不是必须的。这一表态显示了台积电在半导体制造技术方面的灵活性和自主性。

台积电作为全球领先的半导体制造企业，一直是艾司摩尔一般极紫外光曝光机的最大客户。然而，张晓强的言论可能暗示着台积电在寻求技术多元化和设备选择上的新策略。

在同一天的另一场活动中，台积电欧洲子公司总经理狄波特（Paul de Bot）也透露了新的动态。他表示，台积电在德国设立的首座欧洲工厂计划于2024年第四季度开始动工。这座工厂的建设工作正在紧锣密鼓地筹备中，预计将成为台积电在欧洲的重要生产基地。

据了解，台积电去年8月已同意在德国投资35亿欧元（约合新台币1,222亿元），以建立其在欧洲的首个生产基地。这一举措被视为台积电全球化战略的重要一步，也将对欧洲的半导体产业链产生深远影响。