国产存储产业近日迎来两条振奋人心的消息。一方面,微星科技率先完成长鑫存储 DDR5 颗粒在 AMD 平台上的深度适配,实测稳定频率突破 DDR5-8000,甚至站上 DDR5-8200;另一方面,长鑫存储被曝已秘密启动键合 DRAM 研发线,目标是在无需 EUV 光刻机的前提下制造下一代高性能 DRAM。两项进展一前一后,分别指向消费市场与前沿工艺,标志着中国存储厂商正从“跟跑”走向“并跑”乃至局部“领跑”。

长期以来,长鑫存储颗粒的 DDR5 内存在 AMD 平台上存在明显的频率瓶颈。无论搭配哪家主板,频率大多止步于 DDR5-6800,导致不少支持国产内存的玩家难以释放 Zen 5 平台的全部性能。这一限制并非颗粒本身素质不足,而是主板 AGESA 微代码中缺少针对长鑫颗粒的优化配置。随着微星基于最新 AGESA 代码展开专项调校,这一桎梏终于被打破。
据微星官方公布,在双内存插槽主板上,搭配长鑫 16Gbit 颗粒的内存可稳定达成 DDR5-8000,并通过 MemTest 100% 覆盖率的完整烧机测试;搭配长鑫 24Gbit 颗粒的内存更进一步,稳定跑上 DDR5-8200,并同样通过了超过 100% 覆盖率的严苛测试。对于更为普遍的四内存插槽主流主板,频率上限也同步提升至 DDR5-7200。值得注意的是,本次验证全部使用金百达、雷克沙等市售标准内存完成,玩家无需特挑“体质”即可直接受益。目前,微星已将相关优化以“玩家版 BIOS”的形式向社区开放下载,未来还会持续迭代并扩展至更多机型。

DDR5-8000 乃至 DDR5-8200 在消费级市场已属于高频范畴,远超 JEDEC 4800 MT/s 的基础标准,也高于多数主流 XMP/EXPO 方案。对于依赖内存带宽的网游、压缩解压、视频剪辑等场景,频率的提升会直接转化为帧率与效率的改善。因此,长鑫颗粒能够站上这一区间,意味着国产 DDR5 在性能层面已经具备了与国际一线颗粒同台竞技的潜力。

如果说微星的适配解决的是“当下能不能用”的问题,那么长鑫在键合 DRAM 上的布局则关乎“未来能不能赢”。据韩国经济日报报道,长鑫已在合肥秘密测试一条键合 DRAM 研发线。这项技术将存储单元阵列与外围控制逻辑分别制造在不同晶圆上,再通过晶圆对晶圆混合键合工艺直接贴合,取消传统微凸点连接,从而缩短连线距离、降低寄生电阻、提升速度并降低功耗。更关键的是,键合 DRAM 无需 EUV 光刻机,仅依靠 DUV 设备配合多重曝光即可实现超高密度,这为长鑫绕开先进光刻机出口管制提供了可行路径。
需要指出的是,EUV 光刻机一直是制约中国先进制程扩张的关键因素。在美国持续收紧半导体出口管制的背景下,长鑫选择以键合架构和 DUV 多重曝光作为突破口,既是一种务实的工程路线,也反映出国产存储在设备受限条件下的创新能力。若键合 DRAM 路线跑通,不仅可以用于常规 DRAM,还可能为中国版本的 HBM 提供工艺基础。

键合 DRAM 并非新概念,三星、SK 海力士也在推进各自方案。但韩媒指出,中韩在存储领域的技术差距已从 5 年以上缩小至 3 年左右,部分下一代技术领域中国甚至已经反超。长鑫的追赶态势也反映在市场数据上:今年第一季度,其 DRAM 全球市场份额已飙升至 8%,从过去“不被统计”成长为不可忽视的玩家。与此同时,苹果正积极推动将长鑫纳入 DRAM 供应链,以对冲 AI 数据中心未来可能吞噬全球 60% 以上存储产能的供应风险。
在长鑫的键合 DRAM 路线图中,长江存储的混合键合专利积累提供了重要支撑。长江存储独创的 Xtacking 架构已从 160 层量产到 270 层,其在晶圆对晶圆混合键合技术上的核心专利达 119 件,远超三星电子的 83 件和 SK 海力士的 11 件。三星电子为开发 V10(430 层)三堆叠 NAND,已向长江存储寻求专利授权,这在韩国存储霸主的历史上几乎没有先例。由于键合 DRAM 同样依赖 W2W 混合键合,长江存储的专利优势同样适用于 DRAM 战场。

HBM 同样是国产存储不能忽视的高地。目前三星与 SK 海力士已进入 HBM4 主导权争夺,并计划明年量产 HBM4E。长鑫存储则将 20% 的产线转为 HBM 专用,全力冲击 HBM3 和 HBM3E。首尔大学教授崔宇永警告,一旦华为等中国本土 AI 芯片厂商开始内采 HBM 积累实战经验,良率和稳定性可能比预期更快步入正轨。此外,长鑫还在向 CXL 3.0 DRAM 市场延伸。

当然,也必须保持清醒。长鑫的键合 DRAM 仍处于研发线阶段,距离大规模量产和商用还有距离;微星的 BIOS 优化虽然是国产内存消费级体验的实质性进步,但最终稳定性仍需更多玩家验证。韩国首尔大学黄哲圣教授直言,中国半导体产业将成为韩国未来最大的威胁,但这场竞赛远未到终点。
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