TOPCon 电池技术发展迅速，性能优化与企业突破成果显著

TOPCon 技术在电池领域应用广泛，其主要用于电池背表面，由一层极薄的氧化层和多晶硅薄层构成。多晶硅薄层经掺杂激活后与氧化层协同作用于背表面，对少数载流子有良好钝化效果，对多数载流子导电性极佳。通过表面金属化工艺，能获得无需开孔的钝化接触，是提升 Voc 的关键途径，大幅降低金属接触复合电流。

TOPCon 电池背表面的隧穿氧化层与多晶硅层叠层结构具有重要意义。该结构不仅有场钝化作用，还具备载流子选择透过特性，显著提升背表面钝化特性，降低复合电流密度。然而，隧穿氧化层厚度对电池电学性能参数影响巨大。

研究发现，当隧穿氧化层厚度值 d≤1.2nm 时，电池的转换效率、开路电压、填充因子及短路电流密度基本稳定；当 1.2nm

在减反射膜层设计方面，到达硅片表面的太阳光因表面反射率和光波吸收特性难以被完全吸收。当光照在硅片前表面，因反射、折射现象导致入射光损失较多。

若在硅片表面增加合适厚度的薄膜，能提高光吸收率，改善电池性能。目前常用的减反射膜为 SiNx，其折射率接近理想值，具有良好的减反射光学特性。

为优化膜厚匹配，常借助模拟软件。如 WaferRayTracer 软件可模拟材料与硅片结合的光学性能。不同厚度的 SiNx 膜层反射率曲线不同，颜色也各异。综合来看，70nm 的 SiNx 膜层陷光效果好，反射率较低。

近年来，多家企业在 TOPCon 电池技术上不断取得突破。红太阳新能源实现了首片流片，效率超 25%，且拉线速度和首批效率领先行业。山西中来光能采用新一代 J-TOPCon2.0 技术，量产效率达 25.5%以上，并搭配透明网格背板，在减重和降本方面表现出色。先导智能的 TOPCon3.0 技术也处于行业领先水平，极大推动了量产化进程。