在半导体行业历经多年技术攻坚后,英特尔近日宣布其备受瞩目的18A(1.8纳米级)先进制程工艺已“准备就绪”,计划于2025年上半年启动流片,并有望通过Panther Lake客户端处理器和Clearwater Forest服务器芯片实现技术突破,重塑行业竞争格局。

英特尔18A工艺被视为其代工业务(IFS)的关键转折点。该工艺首次采用RibbonFET全环绕栅极(GAA)晶体管架构,并引入创新的背侧供电(PowerVia)技术,将电源传输层移至晶圆背面,显著降低功耗并提升芯片密度。据官方数据,18A的SRAM位单元尺寸从Intel 3工艺的0.03μm²缩小至0.023μm²,芯片密度较前代提升30%,每瓦性能提高15%,直接对标台积电N2工艺。
18A的首批应用将聚焦于Panther Lake移动处理器和Clearwater Forest至强服务器芯片。其中,Panther Lake定位AI PC市场,计划于2025年下半年投产,预计2026年大规模上市;Clearwater Forest则面向数据中心,原定2025年发布,现调整为2026年上半年推出。此外,英特尔下一代Celestial独立显卡也可能采用18A工艺。
尽管目前尚未公布外部客户名单,但英特尔透露已与亚马逊AWS、微软Azure等云服务巨头达成合作,为其定制基于18A的芯片。博通等企业也在评估该工艺。随着2025年上半年流片启动,18A的量产预计将在同年下半年展开,初期产能或优先满足内部需求。
英特尔代工业务曾因Intel 4(7纳米)工艺的延迟而受挫,但18A被视为其重返技术领先地位的核心筹码。若该工艺能如期实现性能与良率目标,英特尔或将在先进制程领域缩小与台积电的差距,甚至撼动后者在AI芯片和高性能计算市场的优势。
18A工艺的成熟标志着英特尔“IDM 2.0”战略迈出关键一步。随着2025年量产临近,英特尔能否凭借技术革新重夺行业话语权,将成为全球半导体格局演变的重要看点。
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